pecvd设备构成和功能 - 恒塑科技热处理设备生产厂家

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一、设备构成

pecvd设备主要有以下几个部分组成：1.真空系统（泵组部分），2.淀积部分，3.供气系统，4.射频系统。

1、真空系统

真空系统主要由一系列泵和波纹管及阀门等组成，主要作用是：维持淀积腔室真空状态，保持腔室压力稳定，及时抽走反应生成的颗粒（硅粉等）。

2、淀积部分

•此部分主要包括沉积炉和工件架，主要作用是淀积所需膜质

•沉积温度：200-230℃ 沉积压力：0.5-1Torr(50-133Pa)

3、cvd系统的供气系统

•主要有管道和电磁阀组成，主要作用是提供成膜所需要的特气及吹扫腔室的气体。

•反应气体：Ar、CH4、B2H6、H2、SiH4、GeH4 、PH3

•清洁气体：NF3

•吹扫气体：N2

•质量流量计量程：

•TMB （三甲基硼C3H9B ）、 PH3 、GeH4 : 4000scm

•Ar、CH4、 SiH4：15000scm

•H2:30000scm

4.射频系统

pecvd设备的主要由RF射频电源柜组成，18分立电源控制18个电极，可对单个电极进行调节。

二、工作原理

<a href='http://www.songlingongzuoshi.com/pecvd/' target='_blank'><u>PECVD设备</u></a>工作原理

2.沉积工作原理

在沉积腔室一定的低真空状态下，通入反应气体，待气流稳定后，打开射频电源对反应气体进行电离，进而生成所需要的膜质。

三、日常维护

每日操作人员需对沉积炉、泵、循环水、特气、RF电源，加热等系统点检。

PECVD操作说明

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